(略) (略) ,于 *** 在公告。 (略) 方式,现邀请合格投标人参加投标。
1、招标条件
项目概况: (略) 薄膜刻蚀的技术。干法刻蚀是把硅片表面暴露于气态中产生的等离子体,等离子体通过光刻胶中开出的窗口,与硅片发生物理或化学反应(或同时有这两种反应),从而去掉暴露的表面材料。刻蚀技术的出现是由于集成电路制作工艺的需要,其发展亦是伴随集成电路的不断微细化的和高集成化而完善更新。目前已成为生产中不可缺少的关键技术。此次采购的设备主要用于刻蚀以下几种化合物半导体:砷化镓(GaAs)、氮化镓(GaN)、磷化铟(InP)、碳化硅(SiC)等Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料以及Ⅱ-Ⅵ族化合物材料。
资金到位或资金来源落实情况:已到位
(略) 条件的说明:已具备
2、招标内容
招标项目编号: *** SH * A *
招标项目名称: (略) 电子信息 (略) 感应耦合式反应离子刻蚀机
项目实施地点:中国 (略) 市
招标产品列表(主要设备):
序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
*** SH * A * | 感应耦合式反应离子刻蚀机 | 1台 | 静电吸盘或机械卡盘固定硅片,机 (略) 分不超过5mm |
3、投标人资格要求
投标人应具备的资格或业绩:1)具有独立的法人资格,相应的经营范围;
2)投标人是专 (略) 需设备的制造商,或由制造商指定 * 个代理商作为本次投标的唯 * 授权代理;
3)投标人提供的投标机型应是原产地的全新产品;
4) (略) 投标电子交易平台上注册,网址:http://注册成功 (略) 站的验证;
5)不接受联合体投标;
6) (略) 文件。
是否接受联合体投标:不接受
未领购招标文件是否可以参加投标:不可以
4、招标文件的获取
招标文件领购开始时间: ***
招标文件领购结束时间: ***
是否在线售卖标书:否
获取招标文件方式:现场领购
招标文件领购地点: (略) 市共和新路 * 号C座 * 室
招标文件售价:¥ * /$ *
其他说明:技术联系人:栾老师
电话: * - * - ***
5、投标文件的递交
投标截止时间(开标时间): *** * : *
投标文件送达地点: (略) 市共和新路 * 号C座 * 室
开标地点: (略) 市共和新路 * 号C座 * 室
6、投标人在投标 (略) (https:/ *** ) (略) 投标电子交易平台(https://)完成注册及信息核验。评标结 (略) 和公示。
7、联系方式
招标人: (略)
地址: (略) 市 (略) 路 * 号
联系人:王老师
联系方式: * - * - ***
招标代理机构: (略) 有限公司
地址: (略) 市共和新路 * 号C座 * 室
联系人:林佳文
联系方式: * - * - *** 、 * - * - *** 、
8、汇款方式:
招标代理 (略) (人民币): (略) (略) (略)
招标代理 (略) (美元): (略) (略) (略)
账号(人民币): ***
账号(美元): ***
其他:Swift BIC: MSBCCNBJ *