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“朔州集成电路” 相关招标采购项目

...水含量:在半导体材料的制备和大规模集成电路制造工艺中,要求高纯氮气的水含量控制在较低水平,一般在1ppm以下。- 其他杂质含量:高纯氮气中还...

2024-12-26

...水含量:在半导体材料的制备和大规模集成电路制造工艺中,要求高纯氮气的水含量控制在较低水平,一般在1ppm以下。 - 其他杂质含量:高纯氮气中...

2024-12-26

...水含量:在半导体材料的制备和大规模集成电路制造工艺中,要求高纯氮气的水含量控制在较低水平,一般在1ppm以下。- 其他杂质含量:高纯氮气中还...

2024-11-29

...水含量:在半导体材料的制备和大规模集成电路制造工艺中,要求高纯氮气的水含量控制在较低水平,一般在1ppm以下。 - 其他杂质含量:高纯氮气中...

2024-11-29

...鉴当今先进的有线电话设计、采用数字集成电路、高灵敏度、节能;2.仪器可在具有甲烷和煤尘环境中应用;3.具有连续通信功能(通话距离≥2km);...

2024-11-19

...鉴当今先进的有线电话设计、采用数字集成电路、高灵敏度、节能;2.仪器可在具有甲烷和煤尘环境中应用;3.具有连续通信功能(通话距离≥2km);...

2024-11-19

...鉴当今先进的有线电话设计、采用数字集成电路、高灵敏度、节能;2.仪器可在具有甲烷和煤尘环境中应用;3.具有连续通信功能(通话距离≥2km);...

2024-10-29

...鉴当今先进的有线电话设计、采用数字集成电路、高灵敏度、节能;2.仪器可在具有甲烷和煤尘环境中应用;3.具有连续通信功能(通话距离≥2km);...

2024-10-29

...水含量:在半导体材料的制备和大规模集成电路制造工艺中,要求高纯氮气的水含量控制在较低水平,一般在1ppm以下。- 其他杂质含量:高纯氮气中还...

2024-08-29

...水含量:在半导体材料的制备和大规模集成电路制造工艺中,要求高纯氮气的水含量控制在较低水平,一般在1ppm以下。 - 其他杂质含量:高纯氮气中...

2024-08-29

...水含量:在半导体材料的制备和大规模集成电路制造工艺中,要求高纯氮气的水含量控制在较低水平,一般在1ppm以下。 - 其他杂质含量:高纯氮气中...

2024-06-20

...水含量:在半导体材料的制备和大规模集成电路制造工艺中,要求高纯氮气的水含量控制在较低水平,一般在1ppm以下。 - 其他杂质含量:高纯氮气中...

2024-06-20

...020056 102707199 集成电路板\SVG-GMGSC-0904 05111401 05111401 昔阳嘉阳电站SVG功率模块采...

2024-05-20

...020056 102707199 集成电路板\SVG-GMGSC-0904 05111401 05111401 昔阳嘉阳电站SVG功率模块采...

2024-05-20
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