2024年11月政府意向-真空应用设备详细情况万元人民币招标预告

A#真空应用设备

本采购项目由高真空薄膜制备系统和原子层沉积真空系统组成。其中高真空薄膜制备系统的指标如下：1.真空腔室：★真空腔室采用304不锈钢腔室镜 (略) 理，半导体级清洗（投标人于投标文件中必须提供所投产品能满足该项要求的相关证明材料，提供腔室真空状态下腔内分析检验报告并加盖投标人公章）；2.均匀性：★金属材料蒸镀成膜不均匀性：≤±5%（Au、Ag膜厚≥150nm）均匀性优于+/-5%.3.真空系统：FF-200/1300脂润滑分子泵（抽速：1300 L/S）+BSV30(抽速: 9L/S) 旋片式真空泵组成高真空抽气系统。4.极限真空度 优于 5.0×10-5Pa；5.抽速 抽气时间：从大气压到 8x10 -4Pa 小于 30min(氮气环境）；6.漏率：优于 5×10－8Pa*L/S（国家标准）；关机 12 小时后， 真空度≤5Pa；7.基片台：抽屉式结构，基片台尺寸≤ 120x120mm.配气动基片大挡板。样品台可旋转,0-30 转/分连续可调，基片与蒸发源距离手动可调，手动升降调节最大距离 50mm 可 调8.蒸发源及电源 配 4 组舟式蒸发源，金属源采用水冷铜电极+蒸发舟结构(最高温度 1500 度）； 配备 2.4KW 蒸发电源 1 套。蒸发电源可以通过软件控制，也可以手动通过旋钮控制。蒸发电源还可以通过膜厚仪 PID（闭环控制），自动调节蒸发速率。带数显。原子层沉积真空系统指标为：1. 高性能真空系统，整机极限真空＜5×10-3Torr，真空漏率＜5×10-7 Pa·L/S包含：2. 高性能油泵，额定抽速≥25m3/h；3. 真空泵前级配置热阱，加热温度最高500℃，控制精度±1℃，用于吸附、分解未反应的前驱体源；4. 进口压力传感器（真空计），含工艺薄膜规和全量程真空规；5. 真空计前设有保护真空计的 (略) 以及气动隔膜阀；6. TALD-D国际先进双腔热型主机7. 高精度PLC+工控机沉积自动控制系统，满足高精度ALD沉积需求8. 可视化的操作界面，实时显示系统各部分运行状态，可方便的调节温度、流量、脉冲时间等参数，编辑并保存配方；9. 多用户权限分配，软硬件互锁，异常报警、紧急停机等功能确保安全性；10. 沉积模式：连续模式、停流模式；11. 人机界面：外挂式触摸屏，可自由选择悬停位置；12. 在 6 英寸晶圆上以厂家提供的工艺配方（TMA+水）沉积 300 循环氧化铝，以晶圆上至少 5 个均匀分散点（上、下、左、右、中心 5 点，