中国科学院半导体研究所2024年5至12月政府采购意向-红外光电突触制备与训练系统电子工业生产设备-预算金额万元人民币

A*-电子工业生产设备

现阶段，普遍认为二维材料和量子点是制作光电突触的最佳材料，光电突触的性能对材料的缺陷很敏感，高一致性制备量子点材料和转移二维材料是实现高性能光电突触的关键。二维材料高精度定向转移设备可以实现二维材料的微米精度定向转移，Parylene沉积设备能够在量子点和二维材料表面包覆纳米厚度的保护薄膜。以上两个设备是搭建高性能红外光电突触制备和测试系统必不可少的。红外光电突触制备完成后，需要将其电阻和光响应度训练到目标值。为完成以上训练，需要1550nm激光器、信号发生器提供光脉冲刺激，光脉冲刺激光电突触，可以改变突触的电阻和光响应度； (略) 络分析仪表征器件速率，需要光谱仪表征红外光源的光谱，需要源表测试光电突触的i-V，需要示波器测试光电突触的动态训练过程。以上设备是搭建高性能红外光电突触制备和测试系统必不可少的。