超高真空双腔磁控溅射系统招标预告

概算金额人民币，万元)：,592.00,预计交付日期：,2024-06-10,联系人：,黄子轩,联系电话：,*,采购意向需求概况：,采购意向公开,为便于供应商及时了解军队采购信息，根据《军队物资服务集中采购需求管理暂行办法》等有关规,定，现将长沙某部的超高真空双腔磁控溅射系统意向公开如下：,采购,预算,首,需求概况,初步技术,预计采,备注,名称,参数,购时间,元),1.主反应腔室系统,1.1圆柱体超高真空反应腔体，材质为304不锈钢；腔体上盖采用,橡胶圈密封，底部采用金属密封,1.2样品台具备溅射4英寸及以下尺寸基片的能力，可在0~40RPM,的范围内转动：样品台可在氧气环境下加热，最高加热温度不低于,850℃，PID温控精度等于或优于±1℃；,1.3至少配置8套2英寸超高真空靶枪，所有靶枪向上溅,射，共焦设计及防氧化设计；后续可升级为强磁靶枪均,可支持非,磁性材料和磁性材料工作模式的切换，可兼容3mm厚磁性材料；,可进行反应溅射和低压运行，工作距离可调节；所有靶枪均须配备,独立的气动挡板和套简，防止靶材交叉污染；,1.4所有靶枪磁铁全部采用稀土磁铁材质，可被烘干至,超高真空双腔磁控溅射,200℃，适应真空度10-11Tor环境，无需在烘干系统前移除磁,系统，,1、,接价应为人民希,铁。磁铁安装在水冷系统外，确保后续维护、清洁、故障排除和维,餐等全,1.5靶枪电，源包括：至少2套750W直流电源（自带4路切,用。,配网络及输出电缆；,能改氣鲜,2,1.6主腔体至少配备2个观察窗，并且预留RHEED等备用,录安梦藏率务同意n17,1.7薄膜均匀性(Si02):±2.5%@4英寸硅片（去除边,且不得增加任何费用：,超高,3,*方提供的物资质,2.真空系统,进口产,真,2.1主腔体配置国际知名品牌Pfeiffer宽量程涡轮分子泵,品，,属于外方,双腔,贵钱程麓缮棕之必衫换达千0o0以及Kashly。ma罗家，捕这不话于88,1,592,2023.3,限制对我,磁控,到合同和技术文件规定,cfm;极限真空可达到5×10-8Torr;,的要求。,2.2真空控制器同时显示3个真空计输出：裸离子规，对流,出口的进,溅射,系统,4合同生效后，*方,真空计，0.1 Torr Baratron真空计：,口物资。,在18个月内完成货品运,3.,气路和气压控制系统,输、安装及调试,3.1至少配置3路MKS或同级别品牌质量流量控制气路(Ar,、提供1年免费维保；,50sccm、N2fO2-10sccm),带独立的气动隔离阀和过滤器；,6,包装及资料全新未,3.2VAT闭环自动压力控制隔离阀；阀门开和闭之间满量,用。,程有1000位调节；手动放气阀，采用下游压力控制；,7、不能公开项目采购,4.预真空室Load-lock,相关信息，包括数量及,4.1,配置磁性传送杆，带定制样品托盘衬托器,4.2,用途等，涉及物资的全,配置Pfeiffer]抽速不低于7ol/s的宽量程复合涡轮分子,部技术资料等未经*方,泵，以及抽速不低于4cfm的机械前级泵；,同意*方不得向社会公,4.3配置VAT手动插板阀，及全量程真空计；,5.控制系统,开。,5.1提供可编程Labview软件计算机控制系统，包括但不,限于以下功能：Nindows图形用户界面和显示屏；软件具有可编,程自动控制能力；能够通过显示屏实时显示系统真空、,工艺气体流,量、溅射功率、溅射时间等工艺参数及工艺过程；带有5个直流和4,个射频电源接口，用于输出模式、定点、线性缓慢升温和等离子检,测控制；,5.2操作软件应具备带多项自动保护功能、系统故障自检,功能和提示报警功能；不少于100个单独密码保证工艺膜层和工艺,安全性，采用多级进入系统操作，确保系统运行和真空控制的安全,5.3具有开关位置直流电源反馈，直流偏压反馈（射,频)，等离子体识别，工艺气压，气体流反馈，温度反馈，并能将,数据实时显示在PC上；,合计,592万,1,本次公开的采购意向仅作为供应商了解初步采购安排的参考，采购项目具体情况以最终发布的采购,公告和采购文件为准；,2.供应商可以通过军队采购平台反馈参与意向和意见建议。,3.意向公开时间：2022年12月22日至2023年1月23日。,4.联系人及电话：黄子轩*,长沙某部,2022年12月20日

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