材料电辅助加工平台项目三靶材磁控溅射真空镀膜

序号

名称

技术参数

数量

备注

1

溅射样品台

1.样品台承载最大样品尺寸200mm×200mm；

2.样品台最高加热600°C，程序控温（温度控制柜可显示）；

3.样品台可自动旋转，转速连续可调，转速≥60rpm（速度控制柜可显示），基体配备独立自动开合挡板。

1套

2

真空系统

1.高真空分子泵（抽速不低于1200L/s）+机械泵+高真空插板阀结构；

2.镀膜室的极限真空可以达到10^-5Pa；

3.真空测量系统范围：1.0x10⁵-1.0x10^-5Pa（压强控制柜可显示）。

1套

3

气路系统

1.三路进气（ (略) ， (略) ）；

2.采用闭环控制恒压控制系统，保证镀膜室工作气压稳定。

1套

40L高纯氩气2瓶，40L高纯氮气2瓶

4

靶枪

1.要求4英寸磁控溅射靶3支；

2.靶角度可调，每支靶配镀立自动挡板。

1套

高纯（99.9%以上）铝、铜、铬、镍靶材各3个

5

溅射电源

1.直流电源配3台（0~500W可调）、射频电源1台（0~500W可调）、直流脉冲偏压电源1台，电源支持系统设置镀膜工艺参数；

2.靶角度可调，每支靶配镀立自动挡板。

1套

6

溅射室（真空腔体）

1.满足靶材与基体放置以及与真空系统匹配；

2. 腔体材质：SUS304不锈钢，侧开门方式，包含4英寸真空观察窗2个；

3.

1套

7

控制系统

1.采用PLC+触摸屏自动控制系统，可实时设定镀膜工艺参数，包括真空度、镀膜功率、样品台温度；

2.可实现自动抽气、自动泄气、自动程序设定；

3.配套循环制冷水机1台，为设备部件提供冷却保护。

1套