吉林大学2022年11至12月政府采购意向-电子束蒸发薄膜沉积系统-A02050999其他金属加工设备-预算金额150.000000万元(人民币)

A*其他金属加工设备

采购电子束蒸发镀膜沉积系统一套，具体需求如下：[1].极限真空度：≤8×10-6 Pa。[2].系统20分钟真空度：≤6.67×10-4Pa。[3].停泵关机12小时后真空度：≤0.8Pa。[4].电子束蒸镀样品台参数：可放置≥4″圆形基片，最高加热温度 800±1°C。[5].离子清洗源，电压≥3000V，束流≥150mA。[6].电子束偏向角270°，6穴坩埚，单坩埚尺寸≥Φ50mm ×Φ40mm ×25mm，有效蒸发角≥100°，实现带状和点状两种电子束。[7].最大加速电压10KV，发射极电流1A，铝沉积速率≥1.5um/min。[8].全自动控制系统，表示分解能0.001MHz，沉积速率可控制到0.01 nm/s.[9].分子泵和机械泵系统，分子泵抽速≥1200L/S，机械泵抽速≥8L/S。[10].基片与蒸发源之间距离400mm～450mm可调。[11].制备微纳结构基底尺寸：兼容4英寸、2英寸圆形基底，厚度0.2mm-1mm。[12].支持基底类型：硅晶元，玻璃晶元，石英基底，金属基底等。[13].紫外曝光系统（LED紫外曝光系统），最大光强≥300mW／cm2（强度可调）。[14].基底托盘加热系统：加热温度室温至100°C。[15].微纳结构制备过程中实现全自动压印和脱模过程，无需手动脱模。[16].微纳结构制备精度：结构精度≤20nm，结构深宽比≥7.5:1。[17].结构转印精度：压印结构与原始模具对比优于±5%。