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| 先进光刻工艺仿真平台 | |
| (略) 在采购意向： | (略) (略) * 月政府采购意向 |
| 采购单位： | (略) (略) |
| 采购项目名称： | 先进光刻工艺仿真平台 |
| 预算金额： | * . *** 万元(人民币) |
| 采购品目： | A *** -其他电工、电子专用生产设备 |
| 采购需求概况： | 名称：先进光刻工艺仿真平台数量： * 套（包含多种小功能license，license组合后用于完成EUV/DUV 的 OPC/SMO工作）。 需求功能是：完成DUV 光刻以及 EUV光刻的OPC 和SMO仿真功能。 OPC和SMO都是用来挖掘光刻机极限性能，保证光刻质量的重要光刻工艺/技术，需要通过相应的OPC/SMO (略) 仿真得出优化过后的掩模和光源， (略) 制造掩模，调节光源成为优化后的光源，最后将光源和掩模组合 (略) 生产。上文提到的exel 列表在不同的license搭配使用下，可以完成 相应的DUV/EUV OPC/SMO工作。除此之外，软件通过 (略) 分license的数量，主要是分布式计算的license的数量， (略) 理不同规模的芯片。安装后能够完整地完成DUV/EUV OPC/SMO流程。服务、安全、时限 * 个方面待完善。 |
| 预计采购时间： | *** |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排， (略) 和采购文件为准。
京公网安备 11010802042560号