S-17226－2高温MOCVD反应腔系统招标公告

西略（S-17226-2）高温MOCVD反应腔系统竞争性磋商报名工作开始，遵循公开、公平、公正的原则，现公告如下：
一、项目编号：XDCGB-S-17226-2
二、公告时间：2017年#月#日
三、报名时间：2017年#月#-12月21日（上午8：30—4：20）
凡有意向参加投标的合格投标人，请在上述规定时间内报名，截止期后不再办理报名手续。
四、报名时需提交的相关材料：
1）法定代表人授权委托书原件（需加盖公章）；
2）被委托人身份证及法人身份证；
3）工商营业执照、税务登记证、组织机构代码证（三证合一者按相关规定办）；
4）报名公司请将上述材料扫描成PDF文件，以“招标编号+项目名称+公司名称+报名人手机及姓名+身份证号”为主题，通过邮件形式发送至xdcgbm-s@xidian.edu.cn，磋商文件待材料审核通过后，于报名截止当日4:30发送。如未按照要求格略承担，其它略办理。
●投标方应准确提供投标人相关信息，略提供资料的真实性、合法性、有效性负责，如有作假，一经发现立即取消资格。因投标方未及时提供准确信息或主动了解相关信息而造成的一切不利因素略承担。
略文件要求。
五、略门：略
电 话： ## 1-801 赵老师 王老师（设备采购科）
项目主要内容：用于配套生长III-N化合物外延薄膜及异质结构；反应腔系统主体尺寸：外径：710mm，内径：650mm，深度：160mm；数量1套，预算金额98万元。其它具体技术指标及要求见磋商文件。
六、投标截止时间及地点：2017年#月#日下午2:30（南校区办公楼一层102室）


西略
采购略
二○一七年十二月十七日







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