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DUV光刻机需要配套的DUV涂胶显影机DUV光刻工艺的主要难点是需要精确控制曝光后的烘烤条件同时防止环境中的氨含量对工艺造成影响此外涂胶显影机和光刻机需无缝衔接保证工艺重复稳定
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