光刻机招标公告

公告日期： * 日

招标编号: * ]

招标机构名称: (略) 国 (略)

地 址： (略) 市 (略) 区仙林大道1 (略)

邮 编： ***

电 话： *** , ***

联系 人：王咏妙 王旭 张洁 吕春梅

(略) 国 (略) 具 (略) “光刻机”项目的招标采购事宜，欢迎有意向的合格投标人报名投标。邮件报名截止时间： * 日上午8:00。

潜在投标商如有技术疑问，请直接将相关问题发送至报名邮箱，本招标机构不 (略) ；关于“邮件是否查收”，“标书是否送达”等非设备技术问题，可于工作日16:00-16： (略) ，其他时间概不受理。

    一、报名方式：

合格投标人将营业执照（加盖公章）扫描件和投标申请表（见下表,Word 文档）以附件形式发至： * ju.edu.cn 报名邮件主题统一为： * ]光刻机。因报名邮件主题不符合要求导致报名信息未能被统计，本招标机构概不负责。”

*注： (略) 属行业性质是指工业、批发业、零售业、信息传输业、软件和信息技 (略) 业名称；投标单位规模划分参照《关于印发中小企业划型标准规定的通知》（ (略) 联企业[ * 号），大型、中型和小型企业 (略) 列指标的下限，否则下划一档；微型企 (略) 列指标中的一项即可。

二、招标内容及要求：

1曝光面积：≥φ115mm；

2.曝光不均匀性：≤±3%；

3．曝光强度：≥20mw/cm2（365nm波长），可调；

4．曝光分辨率：1μm；

5．曝光模式：可选择一次曝光或套刻曝光模式；

6．显微镜扫描范围：X：±40mm   Y：±35mm；

7．对准范围：X、Y粗调±3mm，细调±0.3mm ；Q粗调±15°，细调±3°；

8．对准精度：1μm；

9．分离量；90～50μm可调；

10．接触－分离漂移：≤1μm；

11．曝光方式：密着曝光，可实现硬接触、软接触和微力接触曝光；

12．找平方式：三点式自动找平机构；

13．掩模版尺寸：≤5″×5″

14．显微系统： (略) CCD系统，显微镜45X～300X连续变倍（物镜1.1X～7.5X），双物镜距离可调范围：11mm～100 mm， (略) 理系统，19″液晶监视器；

15.功耗：≤1KW；低功耗，光源衰减慢。

16．洁净空气压力：≥0.4MPa；

17．真空度：-0.07MPa~-0.09MPa；

18. 样品台可以自由旋转一定角度。