深圳技术大学蝶形腔式MPCVD意向公开
采购单位: | 深圳技术大学 |
项目名称: | 蝶形腔式MPCVD |
预算金额(元): | 1,(略) |
采购品目: | 其他真空获得及应用设备 |
采购需求概况: | 1 微波等离子体化学气相沉积系统主机 主要用于半导体级、光学级、热沉级单晶金刚石及多晶金刚石的生长 ★有效沉积面积不小于3英寸 在Si衬底上生长的多晶金刚石拉曼特征峰半高宽≤6cm-1 ▲多晶金刚石热导率≥1800 W/m·k(需提供证明) 多晶金刚石生长速率≥2 μm/h ▲厚度均匀性≤10%,颜色均匀性好。 测量方法:多点测量厚度,厚度均匀性=(tmax-tmin)/(2*tmean),tmax、tmin、tmean分别是最大厚度、最小厚度、平均厚度。 薄膜沉积厚度≥1000 μm 4 真空系统 工作气压范围:10~300 Torr ★极限真空:<1 Pa 气压控制:自动稳压,稳压范围包含40~250 Torr 真空泵:旋片式机械泵,抽气速率≥4.4 L/s 真空密封:腔体采用双层氟胶圈密封,其余除必要机构外均采用金属密封 真空测量:配备两个进口薄膜规,量程分别包含:1~1000 Torr和1~1000 mTorr ▲机械泵配备油雾分离器 ▲配备真空微尘分离器 5 微波系统 ★微波频率:2450±25 MHz 微波反射保护:环形器,水负载 微波调谐:阻抗调配器,模式转换天线 ★微波泄漏功率密度:≤ 2 mw/cm2 输出功率≥10kW,1kW以上连续可调 6 自动控制系统 配置PLC控制的不小于15”触摸显示屏,用户操作界面友好,所有操作均可在触摸屏上完成 系统自带全自动抽气、起辉、升温、降温等预设流程,用户操作简便 系统支持全自动温度控制、气压控制 ▲系统可设置不少于100套工艺配方,每套配方不少于40行数据。工艺数据可通过备份盘备份导出 7 气路系统 (略) 材质:EP级316钢管 系 (略) 高精度数字式MFC,可 (略) (略) MFC最大流速: H2: 1000sccm, CH4:100sccm, O2:10sccm, N2:10sccm, Ar:20sccm. 8 冷却系统 ▲ (略) (略) :微波发生器、微波电源、反应腔、样品基台 ▲5 (略) 流速、温度实时监测并记录 9 反应腔系统 ★反应腔材料及结构:双层水冷夹层设计碟形316不锈钢反应腔 ▲腔体保压能力:每12小时压升≤0.2 Torr 系统漏率:<1.0x10-9 Pa?m3 /s (通过氦质谱检漏仪检测) 观察窗口:不少于四个CF40窗口,水平分布,用于观察腔体内部生长情况 测温窗口:腔盖顶部配备四个窗口用于斜向测温 ▲腔体开启方式:全自动控制开关反应腔 10 基片台系统 ▲基片台支持升降功能 基片台材质:金属钼、金属铜 钼台尺寸:≥3英寸 ▲钼台设计:分体式 11 测温系统 采用红外测温系统,测温范围包含:250~1400摄氏度 ▲测温窗口:腔盖顶部配备测温窗口,斜向测温 温度均匀性:温差极差±30℃内 |
联系人: | 张宗雁 |
联系电话: | (略) |
预计采购时间: | 2024-12 |
备注: | 无 |